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石油化学プロセスの汚染物質管理

石油化学プロセスの汚染物質管理

石油化学プロセスの汚染物質管理

石油化学プロセス中の汚染は、機器の損傷や製品品質の低下、あるいは致命的な爆発事故の原因として、大きな損失をもたらす可能性があります。作業者は、プロセスの安全性を確保し、機器を保護し、製品品質を最大限に高めるために、汚染物質をはじめ水分、酸素、水素、二酸化炭素などの不純物の管理が求められます。



PSTグループの石油化学業界での軌跡と培われた実務経験

PSTグループは、優れた技術力を持つ専門チームとグローバルなサービス・販売ネットワークを持ち、ユーザーはメーカーに直接コンタクトすることが出来ます。 PSTグループの製品は、石油化学産業の課題に合わせて設計・製造されています。 特定需要に対しては、経験豊富なエンジニアリング部門がお客様と協力してカスタムシステム/パッケージを作成します。

石油化学プロセスの課題に合わせて設計された製品

PSTグループは、水分、酸素、水素、各種ガスをはじめとした石油化学プロセス中の不純物レベルの連続モニタリング用のソリューションを提供しています。スペースやコスト効率が重要な小型のトランスミッター、スポットチェック用の軽量ポータブル機器、微量不純物測定に適したプラズマ発光検出ガスクロマトグラフ・システムやオンライン分析器など、さまざまな製品を取り揃えています。

石油化学プロセスの安全性、品質、効率性を確保する微量水分・ガス分析計のメリット

原油は、多くの化学品、燃料、石油、およびプラスチックや布地などの他の製品の原材料の一つです。最終製品に関係なく、一般的に石油化学処理は水分、酸素、水素の慎重な制御と監視が求められます。PSTグループは、微量水分、酸素、ガス中の水素および硫化水素、炭化水素液体中の溶存水分を測定するための機器を幅広く取り揃えています。

「水分」は、プラントの運転効率および製品の最終的品質に悪影響を及ぼします。多くの石油精製プロセスは、できるだけ乾燥した状態を維持しなければならないため水分測定値の厳密なモニタリングが求められます。
このようなアプリケーションは、低ppmの範囲測定が求められています。プロセス内の過剰な水分は、腐食による機器の損傷につながるだけでなく、メンテナンスや修理のためダウンタイムの増加にもつながります。

「酸素」は、一部のプロセスで不可欠な要素だが、一般的にはプロセスの最終製品の品質劣化を招き、安全上のリスクをもたらす潜在的な汚染物質です。ほとんどのプロセスにおいて、火災や爆発のリスクを回避するために不活性雰囲気が必要とされます。酸素分析器は、プロセス内の酸素レベルを監視し、製品の品質を適切に制御し、ブランケットアプリケーションに使用されるN2の純度が適切であることを確認するために使用されます。
閉鎖空間での低酸素状態は、作業員の窒息のリスクを高めます:周囲の酸素レベルの注意深い監視と信頼性の高いアラームは、作業員の安全にとって非常に重要です。

「水素」は、異性化反応器などの石油化学プロセスで副産物として、また触媒改質剤へのリサイクルガスとして使用/製造されます。PSTグループのプロセス水分計、酸素分析器およびバイナリーガス(熱伝導率)分析器は、水素アプリケーションでの使用が認定されています。

「ガス不純物」は、エチレン/プロピレン製造など、石油化学産業のプロセスで使用される触媒を劣化させる可能性があります。PSTグループのの製品には、最終製品の品質と効率を維持するためのオンラインモニタリングとマルチポイントサンプリングソリューションの両方が含まれています。

石油化学プロセスの汚染物質管理

石油化学プロセスソリューション向け製品
エチレン/プロピレン生産
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
乾燥剤乾燥システム 配管の閉塞や機器の損傷の原因となる水分や氷化合物の生成を防ぐ 液体中の水分(ppmW)または気体中の水分(ppwV)
*プロセスのサンプルポイントによる

<5ppmV(気体中)
<1ppmW(液体中)
分解された石油化学原料(一般的にはナフサ、天然ガス) Liquidew I.S. 
Promet EExd 
Promet I.S. 
QMA601 
炉と蒸留塔 CO、CO2、H2は反応器の触媒効果を低下させることによるダウンタイムを低減する
エチレン/プロピレンの最終品質を測定(スチームによる空気ガス除去を含む
微量不純物(H2、O2、N2、CH4、CO、CO2)
<10ppmVbr
分解された石油化学原料(一般的にはナフサ、天然ガス) multidetek3 EX 
multidetek3 

ポリメリゼーション
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
ポリエチレン、ポリプロピレンの製造
触媒保護と原料の純度を確保するための水分測定
製品品質の確保 – ポリマーの物理的性質(水分が触媒部位と反応し、重合 を妨害する) 液体中の水分(ppmW)または気体中の水分(ppwV)
*プロセスのサンプルポイントによる

<5ppmV(気体中)
<1ppmW(液体中)
エチレン
プロピレン
溶剤(ヘキサン)
QMA401 
Promet EExd 
Promet I.S. 
Liquidew I.S. 
ポリエチレン、ポリプロピレンの製造
触媒保護と原料の純度を確保するための酸素測定
プロセスを台無しにし、製品の品質に影響を与える可能性のあるO2による汚染を防ぐ 50ppb…10ppm O2 エチレン
プロピレン
N2ブランケット
GPR 18 MS 
GPR-18 ATEX 
GPR1200 
Minox-i 
ポリエチレン、ポリプロピレンの製造
触媒保護と原料の純度を確保するための不純物レベルの監視
最終製品の品質を保証する 永久ガス(水素、酸素、窒素、一酸化炭素)や水分など、代表的な不純物のモニタリング <10ppmV エチレン
プロピレン
multidetek3 EX 
multidetek3 
重合: ポリマー製造に使用される酸素純度をモニターする 原料をより安価なアルカンに切り替えたり、爆発の危険性を減らすなど、製造コストの削減 % O2
100% O2
酸素 XTP601 

合成ガス
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
水蒸気メタン改質(SMR) 触媒保護
プロセス効率
最終製品の品質確保
微量不純物 <10ppmV 水素リッチ合成ガス(H/CO比3) LD Rack 
multidetek3 
multidetek3 EX 
CO2(または乾式)改質 プロセスの効率化
最終製品の品質の確保
微量不純物 <10ppmV 合成ガス(H/CO比1) LD Rack 
multidetek3 
multidetek3 EX 
部分酸化(POX) 触媒保護(触媒POXの場合)
プロセス効率
最終製品の品質確保
微量不純物 <10ppmV 合成ガス(H/CO比2) LD Rack 
multidetek3 
multidetek3 EX 
すべてのガス化プロセス 安全 0…5% O2 または 0…25%O2 合成ガス Minox-i 
GPR-28 

改質
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
半再生触媒改質(SRR)および連続触媒再生(CCR)における水分モニター 触媒保護
プロセス効率
触媒床のコーキング防止
水分、10…25 ppmV (再生中は最大 1,000 ppmV) 通常 75% H2
25% C1-C8炭化水素ガス(HC液体を含む可能性あり)
QMA601 
OptiPEAK TDL600
Promet EEXd 
Promet I.S. 
半再生触媒改質(SRR)および連続触媒再生(CCR)における微量不純物の測定 触媒保護
プロセス効率
触媒層のコーキング防止
微量不純物 低ppmV 通常 75% H2
25% C1-C8炭化水素ガス(HC液体を含む可能性あり)
multidetek3 
半再生触媒改質(SRR)および連続触媒再生(CCR)における水素レベルの測定 触媒保護
プロセス効率
触媒層のコーキング防止
0…100 % H2
50…100 % H2
通常 75% H2
25% C1-C8炭化水素ガス(HC液体を含む可能性あり)
XTC601 

芳香族HC
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
ナフサ改質液からのBTX分留における液中水分測定 下流工程に供給される原材料の品質確保 液体中の水分
0…100ppmW
正常値 <1ppmW
C6、C7、C8芳香族HC(ベンゼン、トルエン、キシレン)液体 Liquidew I.S. 
Easidew PRO XP 

異性化
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
ナプサの脱水 – 分子シーブ内の水分モニター 触媒保護 液体中の水分
0…100ppmW
正常値 <1ppmW
C5-C6 HC液体 Liquidew I.S. 
Easidew PRO XP 

硫黄回収
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
硫黄回収装置の酸素純度をモニター SO2排出量を削減し、より重い原油の使用を可能にする H2Sによる触媒の被毒を防止する 酸素純度
30…100 % O2
天然ガスおよび石油精製品 XTP601 

水素化硫黄
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
硫黄除去中の不純物レベルを測定 SO2排出量を削減し、より重い原油の使用を可能にする H2Sによる触媒の被毒を防止する 微量不純物 (H2S, COS) <10 ppmv 天然ガスおよび石油精製品 MultiDetek 3 EX 
GPR-7500/7100 

合成ゴム工場
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
共重合に必要な供給液の水分をモニターする 製品の品質
ゴムの物理的特性の確保
液体中の水分
0…100ppmW
正常値 <1ppmW
1,3-ブタジエン
エチルベンゼン
スチレン液体
Liquidew I.S. 

閉鎖空間(貯蔵タンク、反応容器など)
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
閉鎖空間(貯蔵タンク、反応容器など) 定期整備を行う作業員の窒息リスクを防止するため、周囲の酸素濃度を監視 0…25 % O2 Air OxyTx 
FGD10 

液体容器・貯蔵タンク
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
ブランケット・ケミカルと精製原料中の酸素レベルを監視する 陸上または海上での保管または輸送中の安全確保 微量% O2
0…10 ppmV
0…5 % O2
0…25 % O2
窒素 GPR-18 ATEX
GPR1800 
Minox-i 
XTP601 
GPR-1200 

原料パイプライン
アプリケーション
サービス
測定目的 パラメーター
測定範囲
測定ガス
バックグラウンドガス
推奨製品
天然ガスとオレフィン原料を含むパイプライン内の酸素濃度測定 酸素漏れを検知し、爆発の可能性のある雰囲気を回避 <5 ppm O2 エチレン
プロピレン
ブタジエン
天然ガス
GPR-18 ATEX
Minox-i 
GPR-1200